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空氣、氬氣、氮氣、氧氣、氫氣、四氟化碳plasma清洗...
等離子清洗機常用的氣體有普通的空氣、氬氣、氮氣、氧氣、氫氣、四氟化碳等等，每種氣體都有自己的特性，這里我一一給大家做一做講解
氬氣是一種無色無臭的惰性氣體，通過高壓氣瓶運輸和存儲，在工業中經常應用于金屬的電弧焊接和切割保護。
氬氣是一種惰性氣體，電離后產生的離子體不會與基材發生化學反應，在等離子清洗中主要被應用于基材表面的物理清洗及表面粗化，最大的特點就是在表面清洗中不會造成精密電子器件的表面氧化。正因如此，氬等離子清洗機在半導體、微電子、晶圓制造等行業被廣泛應用。
氬氣、氦氣、氮氣等都是非反應性氣體。氮等離子體處理可以提高材料的硬度和耐磨性。氬和氦性質穩定，放電電壓低(氬原子電離能E為15.57eV)，容易形成亞穩態原子。當然等離子清洗機一方面利用其高能粒子的物理作用清洗容易氧化或還原的物體，Ar+轟擊污垢形成揮發性污垢，用真空泵抽走，避免了表面物質的反應；另一方面，亞穩原子容易利用氬形成，然后與氧和氫分子碰撞時發生電荷轉換和結合，形成氧氫活性原子作用于物體表面
氫氣屬于不穩定氣體，主要用于還原，清洗掉金屬表面的氧化物。四氟化碳是一種無色無味的氣體，無毒、不燃，但在高濃度時具有麻醉作用，所以在工業應用時儲存的容器為專用高壓氣瓶，所使用的減壓閥也為專用減壓閥。
四氟化碳在被等離子清洗機電離后會產生含氫氟酸成分的刻蝕性氣相等離子體，能夠對各種有機表面實現刻蝕及有機物去除，在晶圓制造、線路板制造、太陽能電池板制造等行業中被廣泛應用，在晶圓制造行業中光刻機利用四氟化碳氣體進行硅片的線路刻蝕，等離子清洗機利用四氟化碳進行氮化硅刻蝕及光刻膠去除。
大氣壓等離子就是常壓等離子，通常有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合，主要面向非金屬材料并且要求較高的表面親水效果時采用，比如玻璃，PET 材料等。 二是選用 氬氣/氮氣 組合，主要面向各種金屬材料，如金線、銅線等。因氧氣的氧化作用，替換為此方案中的氮氣后，該問題可以得到有效控制。三是只采用壓縮空氣的情況，只采用壓縮空氣也可以實現表面改性，并且也是常見的一種處理辦法，處理很多材料表面都是使用壓縮空氣直接處理。此為特殊情況，是少數工業客戶需要有限而均勻的表面改性時采用的方案。
安全易用。大氣壓式等離子，也是低溫等離子，不會對材料表面造成損傷，例如對方阻值敏感的材質亦可處理。無電弧，無需真空腔體，也無需廢氣排放系統，長時間使用并不會對操作人員造成身體損害。
面積寬大。大氣壓等離子最大可以處理2m寬的材料，可以滿足現有多數工業企業的需求。
成本低廉。大氣壓等離子設備功耗低，運行成本以氣體為主。
大氣壓等離子清洗機就是常壓等離子清洗機，按照噴頭分類，可以分成為旋噴等離子清洗機和直噴等離子清洗機，直噴機能量高，通常用來處理點和線狀區域，旋噴等離子清洗機用來處理的地方比較寬，而且噴頭大小可以定做到 直徑10cm以上，多個噴頭同時使用可以處理很寬的區域。從廣義上面來說，電暈機其實也是等離子清洗機，通常也是用大氣處理。
實際工作過程中，為了保證最好的清洗效果，常常多種氣體使用，比如先用氫氣還原，然后用氧氣或者混合氣體使用處理，而且會對清洗的時間，通入的氣體量也會做調整。當然，如果你有材料處理，請聯系我們的技術，發材料過來，我們來給你做測試，以達到最佳的清洗效果。
