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光學鏡片鍍膜前清洗

光學鏡片的鍍膜技術是整個光學系統的一個重要組成部分，良好的鍍膜技術能改善鏡片的折射率、阿貝數、散射、衍射和化學性能。光學薄膜真空鍍膜技術一般采用物理氣相沉積（PVD）技術，包括熱蒸發、濺射、離子鍍等方法。而在鍍膜前的光學鏡片一般須經過離心力清洗機和超聲波清洗機清洗，但若想要得到超潔凈的基體表面，則需進一步的采用等離子清洗，不僅能去除表面經離心力清洗和超聲波清洗后的有機殘留物，還能對于后道鍍膜技術起到積極作用。

光學鏡片等離子清洗機的原理是這樣的，利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態下，以電能將氣體轉化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消毒和殺菌。